金刚石抛光液怎么用?金刚石抛光液常用于半导体硅片抛光、计算机硬盘基片、计算机顶头抛光、精细陶瓷、天然晶体、硬质合金、宝石抛光等。浙江理协的金刚石抛光液采用纳米金刚石抛光石英、光学玻璃等材料,其抛光粗糙度达1nm。纳米金刚石的使用有很多优点,由于超细、超硬,使得光学抛光中的难题迎刃而解。精密抛光是光学抛光中的难题,原工艺是把磨料重复使用,需几十小时,效率很低。如今用了纳米金刚石,抛光速度大大进步。抛光仅需十几小时或几分钟,效率进步数十倍至数百倍。以下就是金刚石抛光液的常见用法。从这些事例中不难看出,纳米金刚石可以顺应与满足超精加工的需求。
[1]将水基纳米金刚石用于硅片抛光。用海藻酸钠、羧甲基纤维素钠、活性剂以及去离子水配制抛光液。对超分散纳米金刚石抛光硅片进行了研讨,并对干法抛光和抛光波湿法抛光进行了比照。干法抛光液使硅片粗糙度Ra从107nrn降到4nm。运用水基纳米金刚石抛光液湿法抛光,抛光效率更高,并且硅片的粗糙度更小,到达4nrn。
[2]一种水基纳米金刚石抛光液经过去离子水中加入纳米金刚石、改性剂、分散剂、超分散剂、pH调理剂、润湿剂、具有化学作用的添加剂经过超声搅拌将纳米金刚石分散成20~100nm的小体,制成抛光液。用于各种光电子晶体、计算机硬盘基片、光学元器件及铜衔接的半导体集成电路等的超精细抛光。用于硅片抛光,外表粗糙度达0.214nm。
[3]一种用于存储器硬盘磁头反面研磨的研磨液制造法。包括十到十三个碳的烷羟矿物油、十五个碳的油性剂、金刚石单晶微粉、抗氧化防腐剂、非离子活性剂、消泡剂和抗静电剂,将该抛光剂用于磁头反面抛光。研磨后外表划痕、外表粗糙度是0.3~0.4nm。
[4]纳米抛光液及其制造法的创造专利。以轻质白油为介质,参加非离子活性剂、抗静电剂、净洗剂以及pH调理剂制备了波动性较好的纳米金刚石抛光液。除了用于计算机磁头之外,还可以用于光学器件和陶瓷等高精度研磨和抛光之用。
[5]对中等粒度纳米金刚石抛光液用于磁头抛光工艺进行了研讨。纳米金刚石颗粒越细,抛光粗糙度越小、但是二者并不构成复杂的线性关系。抛光液的分散波动性很大水平上影响了外表划痕。抛光液的波动分散是很重要的。制备一种水性纳米金刚石抛光液,经过三乙醇胺调整pH值后,用来抛光氧化铝工件,这种抛光液使得被加工工件外表更容易清洗。